目前不干膠標(biāo)簽印刷品幾乎全部采用UV上光工藝，分為亮光和亞光兩種。

  (1)實(shí)地上光。利用聯(lián)機(jī)的上光裝置進(jìn)行整體上光，采用柔性版印刷裝置的原理，利用網(wǎng)紋輥來控制上光層厚度。

  (2)局部上光。利用印刷工位或在上光裝置上使用局部印版的方法，對標(biāo)簽圖文進(jìn)行局部上光達(dá)到增加局部光澤和反差效果。

  上光的作用是保護(hù)墨層、增加光澤、防水防潮。目前高檔標(biāo)簽，一般采用上光工藝代替覆膜工藝。

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